对比于HfO2薄膜的HfOxNy-HfO2-HfOxNy三明治堆叠的退火影响

对比研究了HfOxNy-HfO2-HfOxNy 三明治堆叠（标示为SS）薄膜和HfO2 薄膜在退火处理中的表现。AFM 形貌显示SS样品拥有更高的结晶温度和更好的表面形貌；FTIR 谱显示SS样品在退货过程中的界面氧化相对较轻；SS样品在退火过程中的驰豫和频散相对较小。 因此， SS 结构在热处理过程中，显示了比HfO2更优良的性质。同时PDA退火可以使样品的有效轨道电子迁移率和应力诱导电流得到改善。