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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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Enhancement-mode InAlN/GaN MISHEMT with low gate leakage current
低栅漏电的增强型InAlN/GaN MISHEMT

Keywords: enhancement-mode,InAlN/GaN HEMT,threshold voltage,thermal oxidation,gate leakage
漏电流密度
,氮化镓,,线性外推法,氧化技术,阈值电压,传输特性,栅偏压

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Abstract:

中文:本文报道了采用热氧化的技术实现低栅泄漏电的增强型InAlN/GaN MISHEMT。在VDS=5V和VGS=0V时,关态漏极电流达到了10-7A/mm。器件的阈值电压为2.2V。当VDS=5V时,漏极电流在VGS=4.5V时,达到349mA/mm,在VGS=3.4V时,最大跨导为179ms/mm。在当VGS= -15V时候,器件的反向栅泄漏电流达到4.9?10-7A/mm。

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