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OALib Journal期刊
ISSN: 2333-9721
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AlGaSb/GaSb quantum wells grown on an optimized AlSb nucleation layer
AlGaSb/GaSb量子阱生长在优化的AlSb成核层

Keywords: 分子束外延,,III-V族半导体材料

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Abstract:

在GaSb缓冲层上生长5个周期的量子阱,通过优化AlSb成核层的生长温度和生长速率。平面透射电镜像确定的穿透位错密度为2.50 ± 0.91×108 cm-2,高分辨透射电镜清晰的表明AlSb/GaAs界面出现90°位错阵列,其位错的平均间距为5.4 nm,这些位错有效的释放了应变能。在26 K到300 K的温度区间,量子阱的荧光峰主要是基态电子与基态重空穴发光,然而当温度超过76 K时,观察到了基态电子到基态轻空穴的发光。

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