柔性衬底直流磁控溅射ZnO基高性能透明导电薄膜的制备及性能研究

采用直流磁控溅射法，以柔性PET （聚对苯二甲酸乙二醇酯）为基底，通过参数优化以求在室温下制备高性能ZnO/Ag/ZnO多层薄膜。实验中，使用X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测试仪等仪器分别对ZnO/Ag/ZnO多层薄膜的微观结构、表面形貌、透过率及方块电阻进行测试及表征。结果表明，随着Ag层厚度增加，薄膜方块电阻急剧下降，通过改变ZnO层厚度，可有效调节薄膜光学性能，随着ZnO层厚度增加，可见光区平均透过率先增大后减小。引入品质因子FTC作为评价指标可知，当依次沉积ZnO、Ag、ZnO厚度为50 nm、8 nm、50 nm时，薄膜光电性能最佳，其在可见光平均透过率为82.3%、方块电阻为2.8 Ω/□、禁带宽度为3.332 eV