平栅型双层膜阴极的脉冲电压处理及场致发射性能研究

本文采用脉冲电压法对平栅双层膜阴极进行处理，进一步提高其场致发射性能。采用磁控溅射法在平行栅电极上溅射氧化铋薄膜和氧化锡薄膜，并对薄膜进行AFM分析，通过场致发射测试结果表明，经过脉冲电压法处理后的平行栅双层膜阴极的发射性能、如亮度、均匀度等有了很大的提高，阳压为3000V，栅压为190V，其腔体亮度可达462 cd/m2。平行栅双层膜阴极的脉冲电压处理可以有效的改善阴极的场发射性能，为改善SED阴极结构及材料提供了一条有效的实验方法