基于增透膜的非晶硅薄膜激光低损伤晶化工艺研究

本文研究了一种非晶硅薄膜的激光低损伤晶化工艺方法，通过在非晶硅薄膜上淀积氮化硅薄膜方法研究激光退火改善非晶硅薄膜的质量。实验结果表明，随着激光退火频率的增加，有无增透膜样品的衍射强度均会出现先下降后上升再下降的现象。增透膜样品的最强衍射峰出现在10-15 Hz激光退火后，而无增透膜样品的最强衍射峰则出现在20 Hz激光退火后。SEM分析表明，应用增透膜可以降低非晶硅薄膜的激光退火脉冲频率，并减少非晶硅薄膜激光损伤，可作为一种低损伤的激光晶化工艺