TC11微弧氧化膜制备及其结构性能研究

在Na2SiO3-Na2WO4-NaOH混合电解液中，利用微弧氧化(MAO )技术在TC11合金表面制备了氧化膜。用扫描电镜(SEM)，X射线能谱仪(EDS)，X射线衍射仪(XRD)对氧化膜微观结构、化学成分、厚度以及相组成进行了分析，采用HVS-1000维氏显微硬度计、MFT-4000划痕试验机、电化学测量系统完成氧化膜理化性能测试。试验结果表明：微弧氧化膜平均厚度达到135μm，分为两层结构，外层疏松，内层致密，氧化膜主要由TiO2、γ-Al2O3、Al2TiO5以及部分非晶 SiO2组成，主要元素在断面上呈现梯度分布。氧化膜最高显微硬度是基体的4.7倍，膜与基体结合力大于48.50N。电化学极化曲线分析表明，氧化膜在4.5%盐水溶液中比基体的自腐蚀电流密度提高3个数量级，自腐蚀电位正移599mV