水热法制备Si基片状ZnO微晶薄膜

采用真空蒸镀方法在Si（100）基底上制备了六角片状的Zn微晶薄膜，并由N2H4?H2O水热体系制备了Si基片状ZnO微晶薄膜。XRD、SEM与EDS谱分析与测试结果表明，纤锌矿结构片状ZnO微晶长度约1μm、厚度约100nm，几乎垂直于Si基面，且在基面上随机取向组合成连续薄膜。联系室温Si基Zn微晶薄膜氧化物形貌，以“氢氧化锌脱水”反应过程解释了Si基ZnO片状微晶薄膜的生长机制。PL测试分析表明，ZnO微晶薄膜有强的近带边紫外光发射峰和弱的缺陷发射峰