微量SiO2对PI/Al2O3复合薄膜性能的影响

本文通过固定纳米氧化铝(Al2O3)的含量，改变纳米氧化硅(SiO2)的含量，制备一系列纳米SiO2含量不同的聚酰亚胺(PI)/Al2O3/SiO2复合薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)和红外光谱(FTIR)对复合薄膜的微观形貌和分子结构进行表征，结果表明纳米颗粒在PI基体中均匀分散，而且纳米颗粒的加入既不影响PI的分子结构又对聚酰胺酸的热亚胺化无影响。同时测试了薄膜的力学性能、击穿场强和耐电晕时间。结果表明：当纳米SiO2质量分数为5‰时，复合薄膜的击穿场强和耐电晕时间分别为211.15kV/mm、378min，均优于纳米SiO2质量分数分别为0‰、1‰、3‰、7‰的薄膜，并且其力学性能也较优异