不同温度热处理对P3HT：PCBM薄膜的光致发光谱的影响

报道了聚噻吩(P3HT(poly(3-hexylthiophene))，及P3HT与C60 的衍生物PCBM([6,6]- phenylC61- butyric acid methyl ester)共混体系的光致发光现象，分析了不同温度热处理对聚噻吩(P3HT)与C60 的衍生物PCBM共混体系薄膜的光致发光谱的影响。共混膜的光致发光谱(PL)表明，随着热处理温度的升高，P3HT∶PCBM 共混体系所成膜的峰强度增大，当温度升高至130 ℃时，共混膜的光致发光谱峰的强度趋于最大。这说明热处理有利于共混体系中高分子链的有序排列