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ISSN: 2333-9721
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-  2010 

纳米片状NiO的合成及电容性质

Keywords: NiO,纳米片,电容性质,沉淀法

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Abstract:

本文采用沉淀法在500℃下草酸溶液中合成了NiO纳米片。以扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、循环伏安曲线和充放电曲线等表征了所得NiO的形态、晶体结构和电化学性质。结果表明,所得到的NiO纳米片长度为100-150nm,宽度为30-50nm。NiO的纯度高,晶体结构为六方相。并且纳米片的形态和晶格常数随合成温度的改变而变化。由于纳米片形貌大大增加了表面氧化镍的比率,所得NiO纳米片具有较好的电容性质,循环伏安曲线包含两对较强的氧化还原峰,比电容量为157.89 F/g

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