氧化铋薄膜的制备及光催化性能研究

本文采用磁控溅射制备了氧化铋薄膜，研究了制备工艺对薄膜的结构、微观形貌和光学性能的影响，并对样品进行了光催化性能评价。结果表明氧氩比和退火温度显著影响薄膜的性能：当氧氩比为20:80时获得的薄膜具有最佳光催化性能；随退火温度升高，薄膜结晶性增强，并逐渐出现Bi和Si的氧化物，经500℃退火的薄膜具有最强的光催化活性