碱性纳米SiO2溶胶在化学机械抛光中的功能

纳米SiO2是一种性能优越的功能材料，化学机械抛光（CMP）过程的精确控制在很大程度上取决于对纳米SiO2功能的认识。但是目前对碱性纳米SiO2在CMP过程中的功能还没有完全弄清楚，探讨它在CMP中作用是提高CMP技术水平的前提。纳米SiO2溶胶的表面效应使其表面存在大量的羟基，在CMP过程中纳米SiO2表面羟基与碱反应生成硅酸负离子，硅酸负离子再与硅反应来降低纳米SiO2的表面能量，同时达到除去硅的目的。综上所述，碱性纳米SiO2在CMP的过程中不仅起到了磨料的作用，同时参加了化学反应，在此基础上提出了在碱性条件下纳米SiO2与硅的反应机理