衬底和氧分压对Cu掺杂ZnO薄膜的结构及光学特性的影响

采用射频磁控溅射方法在玻璃和硅(100)衬底上制备了不同氧分压的Cu掺杂ZnO(ZnO:Cu)薄膜。利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和光致荧光发光(PL)等表征技术，研究了衬底和氧分压对ZnO:Cu薄膜的结晶性能和光学特性的影响。结果显示薄膜沉积在Si衬底上比玻璃衬底上有更好C轴择优取向，两种衬底上沉积的薄膜有相同的氧分压结晶规律，且在氧氩比为10:10时，薄膜C轴取向同时达到最好。通过对光致发光的研究表明，在低氧环境时玻璃衬底较容易制得好的发光薄膜，可在富氧环境时Si衬底上制得的薄膜发光性能较好