电沉积工艺参数对Ni-TiN-CeO2二元纳米复合镀层中粒子复合量的影响

采用超声—脉冲电沉积法制备了Ni-TiN-CeO2二元纳米复合镀层，研究了工艺参数对镀层中CeO2及TiN粒子复合量的影响，并对镀层的表面形貌及成分进行了测试和分析。结果表明，超声—脉冲电沉积Ni-TiN-CeO2纳米复合镀层的最佳工艺参数为：阴极电流密度4A/dm2，TiN粒子添加量15g/l，CeO2粒子添加量40g/l，正向脉冲占空比20%，超声波功率180W。在该工艺条件下，可获得CeO2质量分数为3.3%、TiN质量分数为4.4%的Ni-TiN-CeO2二元纳米复合镀层。同时，TiN与CeO2二元纳米粒子的加入，充分发挥了两种纳米粒子复合的协同效应，优化了粒子与基质金属的共沉积方式，大大改善了镀层质量