NiSiO₂太阳光谱选择吸收涂层的设计制备及热稳定性研究

采用软件模拟辅助实验的方式制备了新型Al/NiSiO2(M)/NiSiO2(D)/SiO2太阳光谱选择吸收涂层,并对其热稳定性进行了研究。使用磁控溅射技术,通过改变氧气(O2)流量制备了一系列NiSiO2膜层,研究了O2流量对膜层光学性能的影响,并使用光学模拟软件对涂层进行设计和优化。根据模拟优化结果在不锈钢基底上成功制备了Al/NiSiO2(M)/NiSiO2(D)/SiO2光谱选择吸收涂层,其吸收率(α)为0.933, 400 ℃下的发射率(ε)为0.14。涂层在空气中450 ℃高温下热处理100 h后,其吸收率与发射率之比(α/ε)由6.66上升至7.62,依然保持着较高的光谱选择性,表明涂层具有较好的热稳定性