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- 2017
基于氧化镍模板Ni/Al-LDHs/Ni薄膜的制备及其性能研究DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.11.034 Keywords: 电化学氧化,原位合成,Ni/Al-LDHs/Ni薄膜,插层Ni/Al-LDHs/Ni薄膜,性能 Abstract: 采用电化学阳极氧化镍模板和铝片分别提供Ni2+和Al3+,在NH4NO3溶液中原位生长法制备了Ni/Al-NO3-LDHs/Ni薄膜,在弱碱性条件下,通过离子交换将对甲苯磺酸阴离子引入Ni/Al-NO3-LDHs/Ni薄膜层间,制备了对甲苯磺酸/LDHs/Ni复合薄膜,优化了工艺条件;并借助XRD、FT-IR、SEM等手段对薄膜进行了结构和形貌分析。结果表明,对甲苯磺酸阴离子成功插层于LDHs/Ni薄膜层间,层间距由0.701 nm增大至1.216 nm,NO3-离子在1 384 cm-1的特征峰消失,同时出现了对甲苯磺酸阴离子的特征峰。SEM显示,LDHs晶片垂直于Ni基底生长。电化学腐蚀和UV-Vis分析表明,LDHs/Ni薄膜具有良好的耐蚀性和优异的紫外阻隔性能
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