卷绕型磁控溅射法沉积纳米Cu薄膜的性能研究

摘 要： 采用卷绕型磁控溅射设备在涤纶（PET）针刺毡表面沉积了纳米结构Cu薄膜，利用X射线衍射仪（XRD）对薄膜的组分和结晶状态进行了分析，用原子力显微镜(AFM)分析了不同溅射工艺参数对纳米Cu薄膜微观结构和颗粒直径的影响，并较为系统地分析了溅射功率、工作气压和沉积时间对镀铜PET针刺毡导电性能的影响。结果表明：增大溅射功率，镀铜PET针刺毡导电性和Cu膜均匀性变好，但应控制在6kw以下；随工作气压的增大，薄膜方块电阻先减小后增大，薄膜厚度更加均匀；随着沉积时间的延长，Cu粒子的直径增大，Cu膜的导电性和均匀性明显变好