Ni、S单掺杂及共掺杂TiO₂薄膜的制备及光生阴极保护性能研究

将离子掺杂TiO2涂层方法和耦合另外一种具有电子储存能力的半导体氧化物方法相结合,在碳钢/Ni-P-SnO2、碳钢/Ni-P-WO3表面制备Ni、S掺杂TiO2涂层,在可见光条件下,对碳钢进行光生阴极保护作用的研究。首先在不锈钢基体上制备不同摩尔比的Ni、S掺杂及其共掺杂薄膜,通过光电测试,最佳提拉层数为3层、Ni、S最佳掺杂摩尔比分别是0.001,0.005。在此基础上,利用镀膜提拉技术,在碳钢/Ni-P-SnO2、碳钢/Ni-P-WO3表面制备Ni、S掺杂TiO2涂层,并对其进行SEM、XRD等表征,研究其对碳钢光生阴极保护作用,结果发现Ni、S最佳掺杂摩尔比及其最佳Ni、S共掺杂摩尔比呈现了最好的光生阴极保护性能