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外延Y3Fe5O12薄膜的制备及其磁特性的研究DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.10.016 Abstract: 利用磁控溅射方法在Gd3Fe5O12衬底上制备外延Y3Fe5O12薄膜。在室温300 K时,改变腔内氩气压得到不同气压下制备的Y3Fe5O12薄膜。样品都在空气中进行后退火处理,退火温度800 ℃/2 h,退火升温速率是180 ℃/h,降温速率是120 ℃/h。通过测试发现薄膜的特性及膜厚等都依赖沉积氩气压PAr,沉积气压为2.394 Pa时,样品的磁特性较好。为了能充分利用Y3Fe5O12纳米结构特性,利用电子束光刻蚀方法成功制备Y3Fe5O12纳米量级结构阵列,分析磁阻尼因子变化
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