蒙脱石表面电荷特性研究及模拟

以钠基蒙脱石为研究目标,利用酸碱电位滴定方法并结合表面络合模型,对蒙脱石表面电荷特性进行了实验研究及理论计算。结果表明,溶液离子强度为0.1,0.01和0.001 mol/L,蒙脱石的表面零净质子电荷点(pHPZNPC)分别为6.26,7.47和8.18,并且pHPZNPC与溶液离子强度的对数呈良好的线性关系;pH值＜pHPZNPC,蒙脱石的质子化反应发生在结构电荷位和可变电荷位,pH值＞pHPZNPC,蒙脱石的去质子化反应则主要发生在可变电荷位。在质子化-去质子化反应中,蒙脱石表面的结构电荷不会被中和