倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时流场的数值研究

通过数值模拟，研究了倒置的旋转液膜反应器上底边界半封闭时的流场，进一步研究了雷诺数继续增大时涡的发展和演变，并且对相应的现象给出了解释。研究结果表明，继续增大雷诺数，圆台间涡的个数奇偶交替的周期变大；当雷诺数增大到300时，圆台间最终稳定为偶数个涡，涡的个数不再发生变化。