Ce和Ni共掺杂BiFeO3薄膜的光学和铁磁性能

利用溶胶-凝胶工艺在石英衬底上制备了镍铈共掺杂铁酸铋Bi0.9Ce0.1Fe1-xNixO3(xBCFNO, x=0, 0.03, 0.05, 0.07)薄膜.X-射线衍射(XRD) 测试表明所有样品的晶体结构都为四方钙钛矿铁酸铋BiFeO3 结构.由于Ce和Ni共掺杂，XRD显示，峰位置发生偏移.主峰(012/110)峰值在Ni含量x=0.05时峰值最大.扫描电子显微镜(SEM)测试也显示x=0.05时晶粒最大，结晶度最好.光学透射测试显示xBCFNO 薄膜x=0.03时的光学禁带宽度最小，为2.14 eV.铁磁测试结果表明镍铈共掺杂可以进一步提高铁酸铋的室温铁磁性