激光辐照固态Al膜制备p型重掺杂4H-SiC

通过激光辐照固态Al膜，制备了一种p型重掺杂4H-SiC，分析了Al膜厚度、激光脉冲个数对掺杂结果的影响，验证了不同工艺参数对p型掺杂层表面电学性能的调控作用。结果表明，当Al膜厚度为120 nm，脉冲个数为50时，掺杂试样的最大载流子浓度为6.613×1017 cm-3，最小体电阻率为17.36 Ω·cm，掺杂浓度(粒子数浓度)可达6.6×1019 cm-3。4H-SiC的Al掺杂改性机理为：在紫外激光作用下，Si—C键断裂，Al原子替代Si原子形成p型掺杂层。