355 nm全固态紫外激光直写刻蚀硼硅玻璃微通道

利用355 nm全固态紫外激光对硼硅玻璃进行了直写刻蚀实验，采用单一变量法探究了激光能量密度、重复频率、扫描速度、扫描间距、扫描次数对刻蚀结果的影响。研究结果表明，激光能量密度过大时，玻璃易发生严重的崩边裂损现象; 等离子体屏蔽效应随激光能量密度的增大而增强，刻蚀深度减小; 随着重复频率的减小，通道边缘碎裂的现象减轻，刻蚀深度增大; 减小扫描间距可有效改善沟道底面的平整度; 刻蚀深度随扫描次数的增多而增大，同时沟道锥度增大。在较优的加工参数下，实现了宽度为84.8 μm，刻蚀深度为178 μm，底面较平整，沟道垂直度达89.580°的L型微通道的直写刻蚀。