基于液滴锡靶LPP-EUVL光源多层膜的溅射损伤研究
Sputtering damage of multilayer coatings for LPP-EUVL light source based on Sn droplet target

基于Navier-Stokes方程的自相似解，研究了最小质量限制液滴Sn靶激光等离子高能离子的时空分布特性，并将该结果应用于高能离子碎屑刻蚀导致的极紫外光刻(EUVL)光源收集镜寿命的评估.对于不同的绝热膨胀指数γ＝1.67、1.3和1.1，数值计算了激光等离子体平均电离度、等离子体羽辉尺寸、羽辉膨胀速率和离子动能随时间的演化，并得到了高能Sn离子碎屑通量的角分布及其轰击溅射Ru、Mo和Si膜的溅射产额及溅射刻蚀速率.研究发现，激光液滴靶等离子体中的高能Sn离子对Mo，Si多层膜的溅射刻蚀率的角分布满足cos3θ的关系.对EUVL光源而言，为了延长EUV收集镜寿命，降低激光等离子体电离度和采用最小质量限制液滴Sn靶是一条有效的途径.