壳寡糖化学修饰对云芝漆酶催化活性和酶学性质的影响

摘要 利用壳寡糖(COS)对纯化后的云芝漆酶(EC 1.10.3.2)进行化学修饰以改善其活性和稳定性. 最优化学修饰条件:温度5℃, pH=4.0, 100 mg NaIO4, 20 mg COS. 在此条件下得到的修饰酶(COS-TvL)的活性(456.00 U/mg)为天然酶(TvL)活性(314.39 U/mg)的145.04%. 十二烷基磺酸钠聚丙烯酰胺凝胶电泳(SDS-PAGE)结果表明, TvL的3条肽链相对分子质量为58100, 45200和21600, 而 COS-TvL的3条肽链相对分子质量为62900, 53300和39700, 说明酶分子修饰成功, 氨基修饰率为30.7%. TvL的最适pH值在4.0附近, 而COS-TvL的最适pH值在3.5~4.0之间. TvL 的最适温度为40℃, 而COS-TvL的最适温度为45℃. 动力学研究结果显示, TvL的Km=9.929 mmol/L, vmax=714.29 mmol/(mg·min); 而COS-TvL的Km=8.989 mmol/L, vmax=1250 mmol/(mg·min). 通过红外光谱、紫外吸收光谱、紫外差示光谱和荧光发射光谱对TvL和COS-TvL进行了结构表征