sic薄膜力学性能研究

？采用射频磁控溅射法制备了多组sic薄膜样品。用alpha-stepiq台阶仪测量了sic薄膜的厚度,用mht-4显微硬度仪测量了维氏硬度,用afm分析了薄膜的表面形貌。结果表明,溅射功率影响薄膜的硬度;适当加大溅射功率,有利于sic薄膜的生长;存在一个薄膜生长最优化功率窗口;超过功率窗口后继续加大功率,导致沉积层的反溅射率增大,影响薄膜的良好生长。针对薄膜中的应力存在问题提出了相应的解决方法,并用原子力显微镜(afm)观察薄膜表面形貌,从形貌方面来分析溅射功率对硬度的影响。