溅射气压对ba_(2-x)tisi_(2+y)o_8铁电薄膜微观结构的影响

？采用磁控溅射技术制备出ba_(2-x)tisi_(2+y)o_8薄膜,研究了溅射工作气压对薄膜结构的影响。实验发现,随气压降低,ba含量增加、si含量下降,薄膜趋向于ba_(2-x)tisi_(2+y)o_8结构。此外,降低工作气压还有助于提高薄膜的结晶度及取向度;这一现象与溅射过程中溅射粒子平均自由程的变化密切相关工作气压降低,使ba离子平均自由程提高,到达衬底表面ba原子数量增加、能量上升,抑制了ba缺失现象,提高了薄膜质量。