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武汉理工大学学报 2010
fto/glass基底上制备的bifeo3薄膜及其铁电和介电性质研究Keywords: bifeo3薄膜,溶胶-凝胶法,x射线衍射,铁电性,介电性能 Abstract: ?采用溶胶?凝胶法在氟掺杂sno2/glass基底上制备了bifeo3薄膜,薄膜的退火温度在500~600 °c。xrd衍射结果表明bifeo3薄膜结晶良好,没有杂相。剖面扫描电镜结果表明薄膜的厚度为600nm。铁电性测试表明在500°c退火的bfo薄膜有饱和电滞回线,其剩余极化强度为59.94μc/cm2。当退火温度在550°c和600°c时,由于漏电流较大使得电滞回线不饱和。在较高温度退火处理时薄膜表现出较大的介电常数和介电损耗。
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