闪光釉制备工艺对其性能的影响
DOI: 10.3969/j.issn.1671-7627.2001.03.014, PP. 56-59
Keywords: 闪光釉,制备工艺,氧化铈,艺术釉
Abstract:
闪光釉的特征是对入射光有金属镜面般的反射，研究表明，这种反射是由釉中以（200）晶面平行于釉面的ceo2晶粒造成的，晶粒的取向程度越高反射越强。闪光釉的闪光效果可用晶粒取向度f来表征。制备工艺对f影响强烈。本工艺条件下，ceo2质量分数为6%～8%、熔制温度1350℃、保温20～30min，获得f为60%的闪光釉。
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