致密超薄钯膜的制备及其性能研究

根据金属pd的自催化特性,采用改进的pcd法制备致密超薄钯膜,同时考察了氢分压和操作温度对钯膜氢渗透性能的影响以及氢渗透过程的操作稳定性。结果发现,对金属层厚度为0.3～0.4μm的超薄pd/tio2复合膜,773k时的氢渗透性为6.3×10-6mol·m-2·s-1·pa-1,h2/n2的分离系数为1140左右。氢渗透超薄钯膜的稳定时间为80h左右,而且钯膜的氢渗透速率在673～773k的热循环过程中保持稳定