弱光胁迫下黄瓜苗期下胚轴性状的遗传分析

【目的】阐明弱光胁迫下黄瓜下胚轴性状的遗传特点。【方法】以耐弱光黄瓜品系m22与不耐弱光黄瓜品系m14及其f1、f2、回交世代（b1、b2）为试验材料，应用f2群体分离分析方法与主基因+多基因模型分析法,于2007和2008年对弱光（日平均光强为100μmol/(m2·s)）条件下黄瓜的下胚轴长与下胚轴粗进行遗传分析。【结果】群体分离分析结果表明，黄瓜f2代群体中下胚轴粗和下胚轴长性状遗传变异幅度均较小，其中下胚轴粗在2007和2008年的变异幅度分别为0.258和0.226cm，下胚轴长分别为8.5和4.5cm；广义遗传力较低，其中下胚轴粗在2007和2008年的广义遗传力分别为0.54和0.62，下胚轴长为0.60和0.69，表明不宜在f2代进行性状选择。主基因多基因遗传分析表明，黄瓜下胚轴粗的遗传受1对加性主基因-加性-显性多基因模型（d_2）控制，b1、b2、f2世代主基因遗传率分别为27.03%，56.25%和60.38%。下胚轴长遗传受加性-显性-上位性多基因（c_0）控制，b、b2、f2代多基因遗传率分别为74.38%，63.29%和83.37%。【结论】下胚轴粗遗传以主基因遗传为主；下胚轴长性状主要由微效多基因控制，受环境影响很大，不宜进行早代选择。