钛箔上生长α-fe2o3纳米氧化膜及其光电性质研究

利用电镀法在钛箔上沉积一层铁镀层，通过热氧化法将铁镀层氧化。利用x射线衍射谱(xrd)、场发射扫描电子显微镜(fesem)、背散射电子像(bei)和x射线能量散射谱(edx)对氧化产物的晶体结构、形貌和组成进行了表征，利用表面光电压谱(sps)和相位谱(ps)研究了氧化产物的表面光电性质，同时测定了氧化产物的i-v特性。结果表明，铁镀层的表面被热氧化后生成了含α-fe2o3纳米带和纳米片的纳米氧化膜，α-fe2o3纳米氧化膜在300~600nm之间出现了一个与带-带跃迁相关的光伏响应，相位谱显示纳米膜呈n型半导体的导电特征。i-v测试表明在am1.5g100mw·cm-2标准光强作用下，0.23v(vs.ag/agcl)的偏压下能产生的电流密度为0.58ma·cm-2。