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无机化学学报 2012
柠檬酸根对电沉积羟基磷灰石/氧化锆过渡涂层的影响, PP. 1105-1110 Keywords: 柠檬酸根,电化学沉积,ha/zro2,过渡涂层 Abstract: 先后分别在含有zro2+的电解液和含有ca2+、po23-和柠檬酸根的电解液中,用电化学恒电流方法,于钛表面上制得柠檬酸根-羟基磷灰石/氧化锆过渡涂层。采用扫描电镜(sem)、能谱仪(eds)、x-射线衍射(xrd)、红外光谱(ftir)和万能力学测试仪对过渡涂层进行分析,并对电沉积各个阶段的微观生长机理进行了探讨。结果表明柠檬酸根延长了ha晶体的形核孕育期,涂层由疏松的微米级菊花瓣状变化为致密的近纳米级针状(或片状),zro2作为过渡涂层,很好的缓解了ha与钛基热膨胀系数不匹配等缺点。拉伸试验表明,过渡涂层的结合强度较ha涂层从7.40mpa增加到27.11mpa。
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