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ISSN: 2333-9721
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二茂铁取代卟啉的合成表征及电化学性质(英文)

, PP. 199-205

Keywords: 二茂铁取代卟啉,合成,表征,质子化反应,电化学和光谱电化学

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Abstract:

通过吡咯与二茂铁甲醛和对甲基苯甲醛的直接交叉缩合反应,合成并成功分离了6个含有0~4个二茂铁取代基的卟啉化合物:5,10,15,20-四(4-甲苯基)卟啉[(ch3ph)4ph2]、5-(二茂铁基)-10,15,20-三(4-甲苯基)卟啉[fc(ch3ph)3ph2]、cis-5,10-二(二茂铁基)-15,20-二(4-甲苯基)卟啉[cis-fc2(ch3ph)2ph2]、trans-5,15-二(二茂铁基)-10,20-二(4-甲苯基)卟啉[trans-fc2(ch3ph)2ph2]、5,10,15-三(二茂铁基)-20-(4-甲苯基)卟啉[fc3(ch3ph)ph2]、5,10,15,20-四(二茂铁基)卟啉[fc4ph2]。用紫外-可见和红外光谱、核磁共振及质谱等技术对卟啉化合物进行了表征,用微量光谱滴定法测定了化合物在非水溶剂中的质子化反应常数,研究了它们的电化学和光谱电化学性质。结果表明,二茂铁取代基对化合物的光谱及氧化还原电位有较大的影响。

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