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无机化学学报 2010
庆大霉素对羟基磷灰石/壳聚糖复合材料性能的影响, PP. 106-111 Keywords: 壳聚糖,羟基磷灰石,庆大霉素,局部药物缓释体系 Abstract: 羟基磷灰石/壳聚糖-庆大霉素(ha/cs-g)缓释材料为骨髓炎的定点缓释给药提供了一种有效的局部药物缓释体系。为了研究抗生素对羟基磷灰石/壳聚糖材料性能的影响,采用共沉淀法制备了ha/cs-g缓释材料。利用红外光谱(ir)、x射线衍射(xrd)和扫描电子显微镜(sem)对材料进行了表征。以不载药的羟基磷灰石/壳聚糖(ha/cs)为对照,研究了庆大霉素对ha/cs复合材料抑菌性能、力学性能和降解性能等的影响。实验结果表明,ha/cs-g有良好的抑菌效果。负载庆大霉素后ha/cs的机械强度明显增强,而材料的降解速率有所下降。本文采用的二次成型技术显著增大了材料的机械强度。
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