有机硅修饰的剥层水滑石及其对废水中金属离子的吸附

对剥层的镁铝硝酸根水滑石(mg2al-no3-ldhs)片表面进行了有机硅化合物(n-(2-aminoethyl)-3-aminopropyl)tris-(2-ethoxy)silane(kh-791)修饰,并研究了修饰后的水滑石片对废水中pb2+,cu2+和zn2+离子的吸附行为。结果表明:在相同的温度和金属离子浓度条件下,被修饰的水滑石片对pb2+吸附容量最大,达到378.0mg·g-1;在以上几种金属离子的混合溶液中,修饰主体材料表现出对pb2+高度的选择性吸附,对pb2+吸附容量为85mg·g-1,而对zn2+和cu2+的吸附容量只有30mg·g-1左右。