酸性黄25插层水滑石薄膜的制备及其性能研究

采用原位生长法在铝片基底表面制备了znal-no3-ldhs水滑石薄膜，以其为前驱体，在弱酸性条件下通过离子交换反应将酸性黄25阴离子插层至znal-ldhs/al薄膜层间，制备了酸性黄25插层水滑石薄膜，并采用xrd、sem、ftir、tg-dta、uv-vis和色差计等手段对薄膜进行了表征。xrd和ftir表征结果表明，酸性黄25阴离子成功地插层到了水滑石薄膜层间，znal-ldhs的层间距由0.87nm增加到2.96nm，no3-阴离子在1384cm-1处的特征吸收峰消失，同时出现了酸性黄25阴离子的特征吸收峰。sem照片显示，水滑石晶片主要以c轴平行于铝片基底生长。tg-dta分析、uv-vis分析、色差分析和紫外光老化结果表明，插层后酸性黄25阴离子的耐热性和耐光性均得到了提高。