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无机化学学报 2015
kbi4f13:一个具有高激光损伤阈值的中红外非线性光学材料, PP. 1875-1880 Keywords: 含bi卤化物,单晶结构,非线性光学材料,激光损伤阈值,中红外波段 Abstract: 通过kf和bi2o3在hf的水溶液中的水热反应合成了化合物kbi4f13,首次用x-射线单晶衍射技术鉴定了它的晶体结构。对它进行了xrd、atr-ftir、uv-vis-nir、tg、shg测试。测试结果表明该化合物具有能够相位匹配的二阶非线性光学性能,其粉末倍频效应强度约为kdp的一半;粉末激光损伤阈值为120mw·cm-2,远远高于同等条件下测试的商品化红外非线性光学材料aggas2的粉末激光损伤阈值(5mw·cm-2);粉末的红外吸收边可达20μm;热分解温度为220℃。以上结果表明该物是有潜在应用价值的具有高激光损伤阈值的中红外非线性光学晶体材料。
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