聚焦磁场及发散磁场对霍尔推力器壁面侵蚀的影响研究

为了研究磁场对霍尔推力器壁面侵蚀的影响，利用轮廓仪测量霍尔推力器内外壁面工作30h的侵蚀状况，对比聚焦磁场和发散磁场条件下的推力器壁面侵蚀过程，分析了聚焦磁场改善壁面侵蚀的方式和程度，并进行了机理分析。实验结果表明:在经过30h的实验后，聚焦磁场相对于发散磁场内陶瓷壁面侵蚀深度降低33%，外陶瓷壁面侵蚀深度降低18.6%。理论分析表明:在羽流发散半角小于30°以内时，溅射系数随羽流发散半角增大而增大，将羽流发散半角控制在小于30°以内的“磁聚焦”模式，能够有效降低离子对壁面的侵蚀，进而可提高推力器寿命。