高温对生长在加富co2条件下水稻离体叶片叶绿素荧光的影响

4个水稻品种ir72、桂朝2号、特三矮2号和ⅱ优4480栽种于两种co2浓度(350μl-1、600μll-1)下,将其离体叶片经不同温度(30、35、40、45、50℃)处理30min后,其细胞膜渗漏率随处理温度的升高而上升,ir72和桂朝2号在40-45℃之间有一个急剧上升的折点,而特三矮2号和ⅱ优4480的折点则在45-50℃之间.fv/fm、fv/fo、φpsⅱ和qp随处理温度的升高而下降,qn则先升后降。特三矮2号和ⅱ优4480的这些荧光参数随温度的变化较ir72和桂朝2号相对平缓些。结果表明特三矮2号和ⅱ优4480比ir72和桂朝2号有较强的抗高温能力。生长在高co2浓度下的水稻,叶片经高温处理后,其细胞膜渗漏率大于生长在对照空气中的叶片,但两者的叶绿素荧光参数则没有明显差别。