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ISSN: 2333-9721
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胶体金量子点浮置栅mos结构的制备及其cv特性

, PP. 55-58

Keywords: 金属氧化层半导体(mos)结构,电容电压(cv),纳米金颗粒,自组装

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Abstract:

通过单相相转移法合成了胶体金纳米粒子,利用异种电荷之间的静电相互吸引作用,采用自组装技术制备了二维有序纳米金阵列。在此基础上,制备了在氧化层中内嵌纳米金颗粒的金属氧化层半导体(mos)结构,并研究了其cv特性。扫描电镜显示金粒子的直径在6~7nm左右,cv测量结果显示胶体金量子点浮置栅mos结构存在3v左右的平带电压偏移。通过这种方法制备的胶体金量子点浮置栅mos结构可以在非挥发性存储器研究方面展现巨大的应用前景。

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