柠檬酸盐体系铜电沉积及其在微机电系统中的应用

研究并讨论了在新型柠檬酸盐体系铜电沉积工艺中电镀工艺参数对镀层形貌和颗粒尺寸的影响;利用x射线衍射(xrd)和x射线光电子能谱(xps)表征了镀层的结构和组分存在状态;并将柠檬酸盐体系电沉积铜应用于微机电系统(mems)加工工艺.结果表明:在6g·l-1cu2+,ph=7.0-8.5,1-2a·dm-2,45℃,搅拌条件下可得到结晶细小,表面平整的致密铜镀层;镀层为面心立方多晶结构的单质铜,不含其他杂质.利用mems工艺成功制得平面电感,其有效的最大品质因数(q)为12.75,达到了设计要求.