γ-mo2n催化剂上h2及no吸附性质的tpd-ms研究

采用tpd-ms方法研究了h2及no在γ-mo2n上的吸附状况．单独的h2-tpd结果表明，当h2在673k吸附时，在443k、573k及723k得到了三个h2脱附峰，表明γ-mo2n上有三种不同能量的h2吸附位．no－tpd结果表明，no吸附后亦有三个脱附峰（383k、493k、543k），对应着γ-mo2n上三种不同能量的no吸附位：低、中、高能吸附位．no既可以以解离状态，又可以以一种no三聚态（dimerordinitrosyl）的形式吸附在γ－mo2n上，这些吸附物种在脱附过程中产生大量的n2及少量的n2o.对比no吸附在不同处理条件的γ-mo2n上的tpd结果可知，no是吸附在γ-mo2n上的mo的配位不饱和中心上，这些吸附中心既可通过还原催化剂，又可通过在773k抽空钝化态的γ－mo2n而产生，h2和no共吸附的结果表明，预吸附h2再吸附no后，h2和no的脱附量均大大减少，且只有两个脱附峰出现.no只在363k及493k出现两个脱附峰，表明预吸附氢占据了no的强吸附位，且no很难取代它，从而使no只能吸附在能量较低的吸附位上；而h2只在523k及723k出现两个脱附峰，且伴随着h2的脱出有n2和h2o的产生，表明在γ－mo2n上no可能与预吸附氢形成了一种复合相mohx（no）y,它在脱附时分解为h2、n2及h2o.