氧化钛-氧化石墨插层结构及其光催化性能

采用氧化石墨(go)和硫酸钛作为初始反应物,在低温下(80℃)制备了纳米级的氧化钛-氧化石墨插层(tio2-go)复合材料,研究了这一复合材料的紫外光催化性能.结果表明,在采用tio2-go插层复合材料对甲基橙溶液进行紫外光催化降解时,其降解效率浊=1.17mg·min-1·g-1,明显优于德固赛p25氧化钛粉.通过对tio2-go插层复合材料进行x射线衍射(xrd)、傅里叶红外(ft-ir)光谱、x射线光电子能谱(xps)和场发射扫描电子显微镜(fesem)等测试,表征了产物的晶相结构、界面状况及其显微结构.结果表明:插层结构中的tio2晶粒为锐钛矿和金红石的混合相,且锐钛矿相含量大于金红石相含量;氧化石墨层间的含氧基团如c=o,基本被还原.对tio2-go插层复合材料的形成机理以及该材料具有优越光催化性能的原因进行了探讨.