金属螯合物印迹聚邻苯二胺膜的电化学合成及表征

以邻苯二胺(o-pd)为功能单体,乙二胺四乙酸铜离子螯合物(cu(ii)-edta)为模板分子,利用循环伏安法(cv)合成了cu(ii)-edta分子印迹聚合物(mips).通过紫外-可见(uv-vis)光谱、x射线光电子能谱(xps)、差分脉冲伏安法(dpv)、石英晶体微天平(qcm)等手段对合成的聚合物进行了表征.uv-vis光谱分析表明当溶液的ph≥5.0时有利于邻苯二胺电聚合形成聚合度较高的聚合物;xps结果证明cu(ii)-edta螯合物被成功地包覆在聚合物膜中,且推断出模板分子和聚合物之间可能主要靠氢键相互作用;dpv实验结果证明模板分子能够被有效洗脱;qcm的测试结果表明此方法合成的cu(ii)-edta印迹聚合物膜对cu(ii)-edta具有良好的响应度.