质子照相中成像磁透镜系统对次级质子的消除

？为了解成像磁透镜系统使用对提高质子照相品质的作用，研究了成像磁透镜系统对核反应产生的次级质子的消除作用。利用mcnpx模拟了次级质子的能谱，结果表明：次级质子的平均能量不足照相质子束的50%。从次级质子的能量特性和成像系统质子运动学方面的分析表明：成像磁透镜系统可消除次级质子的影响。利用程序mcnpx对含成像磁透镜系统的质子照相进行了模拟，结果显示：成像磁透镜系统将次级质子对光程的影响减小到2%以下，显著提高了图像品质。