非晶硅薄膜太阳能电池的紫外激光刻蚀工艺

？为提高电池的光电转换效率，通过改善激光刻蚀工艺，采用355nm紫外纳秒激光分别进行了zno：al薄膜（azo）刻蚀（p1）、非晶硅薄膜（α-si）刻蚀（p2）和背电极刻蚀（p3）研究。采用万用表测量p1隔离电阻，采用电子扫描显微镜（sem）和三维激光扫描仪测量刻槽的微结构和三维成像，激光拉曼散射光谱检测非晶硅薄膜刻蚀边缘的晶化。实验结果表明，当刻蚀速度600mm/s，重复频率40khz，功率1.74w的紫外激光刻蚀zno：al薄膜时，刻槽的隔离效果最佳，达20mω;紫外激光刻蚀能够有效地减小激光热效应引起的热影响和刻槽边缘的晶化范围，提高非晶硅薄膜电池的性能。