含氮类金刚石薄膜的紫外辐照研究

？用射频等离子体方法在玻璃基底上制备的类金刚石（dlc）薄膜，采用离子注入法掺氮，并对掺氮dlc薄膜紫外（uv）辐照前后的性能变化进行了研究。研究结果表明：随氮离子注入剂量及uv辐照时间的增加，位于2930cm-1附近的sp3c-h吸收峰明显变小，而位于1580cm-1附近的sp2c-h吸收峰则明显增强，薄膜的电阻率明显呈下降趋势；随uv辐照时间的增加，位于1078cm-1附近的si-o-si键数量及位于786cm-1附近的si-c键数量明显增加。即氮离子注入和uv辐照明显改变了dlc薄膜的结构与特性。